Онлайновая вакуумная плазменная очистительная машина Plasma

Устройство для вакуумной плазменной очистки VPS - RF120Введение:

Устройство для вакуумной плазменной очистки VPS - RF120 состоит в основном из вакуумной полости, высокочастотного плазменного источника питания, вакуумной генерации и измерительной системы, системы технологического газа, системы управления и других компонентов. Основной принцип работы заключается в том, чтобы использовать вакуумный насос для вакуумной накачки студии до определенной степени вакуума, в технологический газ, под действием высокочастотного генератора, между анодом и катодом образуется высокочастотное переменное электрическое поле, газ ионизируется, образуя плазму. Когда газ достигает плазменного состояния, газообразные молекулы разрываются и превращаются во многие очень активные частицы. Механизм плазменной очистки основан именно на « активации» вещества, находящегося в « плазменном состоянии», для достижения цели удаления пятна на поверхности объекта или улучшения поверхностной активности.

Устройство для вакуумной плазменной очистки VPS - RF120Особенности:Европейская и американская разрядная технология, профессиональная разрядная структура, научное моделирование плазмы равномерное распределение, эффект обработки равномерный

Применение продукта: удаление поверхностных органических веществ, очистка поверхностного загрязнения нефтью, улучшение поверхностной гидрофильности, улучшение поверхностного сцепления, улучшение поверхностного сцепления, улучшение характеристик привязки

Параметры продукта: